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3M NOVEC HFE 7200电子氟化液光学设备清洁溶剂半导体

产品分类: 3m Novec电子氟化液
    3M NOVEC HFE 7200是一种无色澄清,无色无味的液体物质,其中甲氧基-九氟代丁烷(C4F9OCH3)含量为99.5%,非挥发组分小于2.0pmm,专门用以替代氟利昂等“臭氧层破坏性”物质。该产品在新
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      3M NOVEC HFE 7200是一种无色澄清,无色无味的液体物质,其中甲氧基-九氟代丁烷(C4F9OCH3)含量为99.5%,非挥发组分小于2.0pmm,专门用以替代氟利昂等“臭氧层破坏性”物质。该产品在新型的的氟氯化碳取代物产品家族中毒性最低,以8小时平均工作时间计,它的时间加权平均限制浓度200ppm。主要应用于精密电子仪器、医疗设备的清洗保清洗剂、溶剂,用于取代CFC-113、三氯乙烷、四氯化碳等。 
      ●特点:无色、无味、无毒、不燃烧,ODP值为零;表面张力低、黏度小、蒸发潜热小。 
      ●用途:特殊用途的溶剂、清洗剂、漂洗剂、无水流体、去焊剂和热传递介质,主要用于电子仪表和激光盘片的清洗,颗粒杂物的去除,光学系统及精密场合下清洗。 
      ●优点:由于性能最接近CFCs,可使用原有清洗设备,不需要增加设备投资,也不需要对工艺做大的改变。绝对环保,安全!

       

       

       

      3M Novec 7200 Engineered Fluid, ethoxy-nonafluorobutane (C4F9OC2H5), is a clear, color? less and low-odor fluid intended to replace ozone-depleting substances (ODSs), compounds with high global warming potential (GWP) and chlorinated materials in many applications. Its physical properties are compared with several other ODS replacement fluid candidates in Tables 1 and 2.

       

       

       

      This proprietary fluid has zero ozone depletion potential and other favorable environmental properties (see Table 2). It is low in toxicity, with a time-weighted average exposure guideline of 200 ppm (eight hour average).

       

       

       

      Novec 7200 fluid has a higher boiling point than most CFCs, HCFCs and HFCs, reducing evaporative losses. The low surface tension and low viscosity of Novec 7200 fluid make it ideal for use in vapor degreasing and cold cleaning applications. In addition, its chemical and thermal stability, nonflammability and low toxicity make it useful for other industrial applications such as specialty solvent and heat transfer applications (see below).

       

      精密光学设备的精密清洗


      可持续性溶剂清洗技术可以使光学设备清洗效果达到新的水平

      不燃、 低温室效应 3M™ Novec™ 系列精密清洗溶剂可以用来去除光学组件生产过程中沾染到的微粒、皮肤油脂、热熔蜡残留物等污染物,从普通的眼镜或隐形眼镜到高性能要求的工业激光用镜头或透镜的生产均可应用。

      Novec液体能快速挥发,并且非常干净,在清洗表面无斑点、无残留。而且它们与光学组件生产中用到的大部分材料(包括非常敏感的塑料:聚碳酸酯和聚甲基丙烯酸甲酯)具有良好的短期兼容性。

      多用途、高效精密清洗溶剂

      对于大部分油污和水溶性污染物,Novec液体是一种高效的清洗溶剂。我们可以使用纯Novec液体去除轻质污染物。Novec 72DE 和 72DA则可被用去去除更有挑战性的污染物,比如重质油污、油脂、沥针对一些很难洗的污染物,可以采用一种共溶清洗体系,这个清洗体系包括两种溶剂:低挥发性的有机溶剂将污染物从部件表面溶解下来, Novec液体则进行漂洗,将前面的溶剂和未洗掉的污染物从部件上去除。青和蜡。

      此外采用bisolvent的清洗体系也可以去除这些很难洗的污染物。它与共溶清洗体系很相似,只不过bisolvent体系是把清洗溶剂和漂洗溶剂分开使用而不是连在一起。这种技术常用于光学设备的清洗中,比如蜡和在这种应用中选择Novec液体非常理想,因为Novec液体能够在漂洗步骤中确保残留溶剂和未洗掉的污染物从部件上去除,而不需要添加额外的清洗步骤沥青的去除。

      一种简单、安全的光学设备清洁溶剂,可替代常规的蜡去除工艺

      例如,3M™ Novec™ 7200 工程液体 已经成功的应用于bi-solvent蒸汽除油工艺中,用于去除激光设备的光学透镜在抛光过程中沾染的热熔蜡。

      这种新的工艺可以用来取代nPB—一种挥发性有机化合物(VOC)清洗溶剂。第一步,在超声波清洗机中使用可生物降解的溶剂(大豆油脂肪酸甲酯)来去除热熔蜡。第二步,使用Novec 7200来去除残留的大豆油脂肪酸甲酯。

      Novec 7200 液体具有诸多优点:不燃,低毒,非危害空气污染物(HAP),非美国环保总署(EPA)定义的挥发性有机化合物(VOC),被加州南岸空气质量管理区组织(SCAQMD)列入"对空气无害溶剂"。正是由于具有这么多特性,这种新型清洗工艺对操作者更安全,同时也符合各地对VOC排放的管控要求。

         

      Novec HFE氢氟醚系列主要用于精密电子、光学部件、医疗设备、航空航天器材等精密清洗液。该产品为非臭氧消耗,低温室效应,安全无毒,同时具有低表面张力,良好的电性能(绝缘),优异的氟素互溶性,稳定的热力学特性。被EPA(美国环境保护局)确定为氟利昂替代物清单(SNAP清单)中的清洁剂和冷媒,列为Acceptable(可无限使用)。是业界公认的有效,安全,符合环保法规的精密清洗液,热传导冷媒,溶剂Solvent及特定助剂欢乐赛车。

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